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開啟式三溫區真空管式爐 采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，該設備設計為與手套箱對接使用，樣品可*處于相對對立的無水無氧環境

開啟式雙溫區管式爐 采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。

LFT系列三溫區真空回轉爐 該設備爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。

雙溫區滑軌式CVD系統（含預熱器）供應 雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD（化學氣象沉積系統）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備

CVD1200C小型滑軌爐（含預熱裝置） 小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。其結構使得拆裝爐管方便，操作簡捷，使用者可直接將密封腔體移出爐體，加快降溫過程，透明石英管腔體可直觀的看到樣品燒結狀態。

CVD1200C-II-SL雙溫區滑軌式CVD系統 雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD（化學氣象沉積系統）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備

雙溫區滑軌爐（含預熱器） 雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD（化學氣象沉積系統）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備

小型滑軌式管式爐CVD系統 小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。其結構使得拆裝爐管方便，操作簡捷，使用者可直接將密封腔體移出爐體，加快降溫過程，透明石英管腔體可直觀的看到樣品燒結狀態。